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顶的速度越来越快越叫的原因,顶的速度越来越快过程 国家知识产权局:将修改完善集成电路布图设计保护条例,适应大规模集成电路发展需要

  金(jīn)融界4月(yuè)24日(rì)消(xiāo)息,国家知(zhī)识产权局局(jú)长申(shēn)长雨在新闻发布会上表示,将统筹推(tuī)进各(gè)类知识产(chǎn)权法律(lǜ)法规和制度规则的制修(xiū)订工作。其中,修改完善(shàn)集成(chéng)电(diàn)路布(bù)图设计保护条例,适(shì)应大(dà)规模集成电路发(fā)展需要,助(zhù)力芯片产业做(zuò)大做(zuò)强,服(fú)务数字经(jīng)济更好发展。

  加强(qiáng)大数据、人工智能、基因技(jì)术(shù)等新领域(yù)新业态知(zhī)识产权规则(zé)研究,助(zhù)力相关领域创(chuàng)新发顶的速度越来越快越叫的原因,顶的速度越来越快过程(fā)展。同时,积极参(cān)与知(zhī)识产权(quán)国际规(guī)则制定,更好对接(jiē)高标准国际(jì)经贸规(guī)则(zé),助力高水平(píng)对外开放。

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